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根据俄罗斯《消息报》8月7日的报道，中国在微芯片竞争中正逐渐赶上。据中国媒体披露，上海微电子有望在年底前推出28纳米浸没式光刻机。尽管这一新光刻机在技术上仍会落后于目前最先进的同类产品，但鉴于外国供应商的限制逐渐增加，中国的快速进步可谓正当其时。
美国政府于2022年10月7日发布半导体出口管制新规，这一制裁是在中国半导体行业突破之际实施的。据了解，2022年夏天，中芯国际已经掌握了7纳米芯片的生产工艺，使中国成为全球半导体（电子元器件）行业的领导者之一。
然而，中国目前面临的主要挑战不是芯片本身，而是生产芯片所需的工具，尤其是光刻机，因其具有垄断性。极紫外线光刻机生产技术目前仅由荷兰阿斯麦公司（ASML）掌握，没有它就无法生产最先进、最现代的芯片。
美国正试图实现双重目标：遏制中国半导体行业的发展，并提升自身在全球市场的地位。然而，美国在这一领域远远落后，其芯片产量仅占全球约12%。为此，拜登政府通过了《芯片与科学法》，其中包括提供390亿美元用于鼓励在美国境内生产芯片，以及130亿美元用于芯片研发。
只有未来才能证明这场“芯片战”的结果。然而，目前来看，美国的制裁似乎并没有给中国产业造成无法承受的损害。中国企业已储备了足够的设备和材料，可以维持一段时间。解决中国“卡脖子”问题将是一个缓慢的过程，但无疑会得到解决。
此外，荷兰和日本并未急于采取与美国相同的严厉措施来对中国进行制裁，因为失去中国市场将对它们造成巨大打击。还有人认为，限制向中国提供半导体设备只会迫使中国加倍努力构建自己的生产链。即使中国目前尚未拥有完整的生产链，但已非常接近。随着在光刻机领域取得的新突破，中国制造的芯片将远远超过所需标准。
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