俄罗斯研发生产芯片微影光刻机，2024年开始生产350纳米微影光刻机

来源：网络| 发布日期：2023-11-09 14:00:01 浏览量：

据俄罗斯媒体报道，俄罗斯正在致力于研发和生产芯片微影光刻机。俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体采访时表示，明年将开始生产350纳米微影光刻机，届时俄罗斯将拥有自己的光刻机。此外，俄罗斯还计划在2026年启动用于生产130纳米制程芯片的微影光刻机。这些设备的生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚等现有工厂进行。

Vasily Shpak指出，目前全球只有两家公司生产此类设备，分别是日本的NIKON和荷兰的ASML。然而，这些设备对于半导体生产至关重要。他强调，如果没有半导体主权，就没有技术主权，这将使国家在国防安全和政治主权方面变得非常脆弱。虽然俄罗斯已经掌握了使用外国制造的65纳米微影光刻机的技术，但由于外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的微影光刻机，俄罗斯正在紧急开发自己的生产设备。

明年，俄罗斯将开始生产光刻机。Vasily Shpak表示，2024年将拨款2114亿卢布（约23亿美元）用于国内电子产品的开发。俄罗斯决定开发350纳米到65纳米微影光刻机的原因在于，这一技术范围内的芯片广泛应用于微控制、电力电子、电信电路、汽车电子等领域，这些应用大约占市场的60%。因此，这种设备在全球市场上有很大的需求，并且至少在未来10年内将持续存在需求。

当被问及可能面临的阻力时，Vasily Shpak表示，他不想抱怨，因为所有问题都不是问题，这关乎俄罗斯拥有哪些机会以及设定的目标。俄罗斯将继续努力发展自己的微影光刻机产业，以确保在半导体领域取得更大的自主权和竞争力。

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